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Stage de technologie RENNES

2M2AD2 Stage de technologie RENNES Materiaux et Chimie S8
Cours : 12 h TD : 30 h TP : 0 h Projet : 0 h Total : 42 h
Responsable : Jean-Michel Rueff
Pré-requis
2M2AD1
Objectifs de l'enseignement
Ce stage d'une semaine permet de réaliser en salle blanche la fabrication complète de transistor PMOS et de structures de type MEMS jusqu'à leur caractérisation.
Programme détaillé
Fabrication d'un PMOS en 4 masques.
Oxydation épaisse.
Ouverture Drain -Source.
Oxydation de grille.
Ouverture des contacts.
Métallisation, définition des pistes.
Caractérisations électriques.
Réalisation et caractérisation de poutres MEMS en polysilicium.
Applications (TD ou TP)
Non renseigné
Compétences acquises
A l'issue de ce stage les étudiants possèdent une expérience pratique de la réalisation et de la caractérisation de structures de type PMOS et de MEMS.
Bibliographie
Non renseigné

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